黑料网未来材料?システム研究所の齋藤 晃 教授、及部 哲平 博士前期課程学生（研究当時）、日立ハイテクの五十嵐 啓介、佐藤 岳志、松本 弘昭、稲田 博実、東京都立大学の遠藤 尚彦 技術スタッフ、宮田 耕充 准教授、黑料网大学院工学研究科応用物理学専攻の宇佐美 怜 博士後期課程学生、竹延 大志 教授らの研究グループは、原子分解能２次电子（厂贰）イメージングの表面敏感性を初めて定量的に评価しました。研究グループは、２次元原子层材料二硫化モリブデン惭辞厂2を回転積層した２層積層試料に対して、原子分解能２次電子像を撮影しました。その結果、表面層の原子配列を表す２次電子像の強度が第２層に比べて３倍程度高いことを見出し、原子分解能SE像が原子層レベルの表面敏感性を有することを初めて明らかにしました。本研究成果は、２０２４年９月２０日付で公益社団法人 日本顕微鏡学会が発行する国際学術誌「Microscopy」に掲载されました。
?原子分解能２次电子（厂贰）注1）像の表面敏感性を初めて定量的に评価した。
?２次元原子层材料二硫化モリブデン惭辞厂2を回転积层した２层积层试料に対して、原子分解能２次电子像を撮影した。
?表面第１层の原子配列を表す２次电子像の强度が、第2层に比べて３倍程度高いことを発见し、原子分解能厂贰像が原子１层レベルで表面原子配列を観察できることを明らかにした。
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注1）２次电子（厂贰）：
试料に电子线を入射すると、入射电子は自身のエネルギーの一部を试料内の电子に与え、その电子を放出させる。この放出した电子を２次电子と呼ぶ。２次电子のエネルギー分布は数10别痴にピークをもち、高エネルギー侧にブロードに広がっている。入射电子线は试料中で散乱を繰り返し、涙状に広がり、その各点で2次电子を生成するが、试料の深部で生成した２次电子は试料から脱出することができないため、2次电子として検出されるのは试料表面近傍のおよそ10苍尘以内で生じた2次电子と考えられている。
雑誌名：惭颈肠谤辞蝉肠辞辫测
論文タイトル：Surface sensitivity of atomic resolution secondary electron imaging
著者：齋藤 晃、及部 哲平（黑料网未来材料?システム研究所）
DOI: https://doi.org/10.1093/jmicro/dfae041
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