地球温暖化対策、エネルギーの安定确保等の観点から、彻底した省エネルギー社会の実现は、我が国の喫紧の课题となっている。我が国においてエネルギー消费が増大している运输部门、家庭部门、业务他部门の电力消费低减のためには、电力変换时の损失を大幅に削减できるパワーエレクトロニクスに応用できる次世代半导体パワーデバイスとしては、これまでシリコン（厂颈）が実用化され、现在炭化ケイ素（厂颈颁）が导入されつつあるが、原理的に高速动作が可能で高电圧?省电力で使用できる窒化ガリウム（骋补狈）等の次世代半导体が注目されている。
现在、我が国では、省エネ社会実现のため、基础基盘研究の课题が多い窒化ガリウム（骋补狈）等の次世代半导体に関し、我が国の强みを活かし、実用化に向けた研究开発を一体的に加速することが求められている。
このような中で、黑料网未来材料?システム研究所附属未来エレクトロニクス集積研究センターを中核として、オールジャパン体制による GaN 研究コンソーシアムを立ち上げ、『橋渡し機能』を包含した「オープンイノベーションシステムの構築」を進めることにより「省エネルギーイノベーション」を世界に先駆けて実現することとしている。
そのため、大学、企業、国立研究開発法人等の産学官共創により、次世代半導体GaN等の材料、デバイスの基礎研究からシステム技術までを一気通貫で研究開発を行い、社会実装を加速させることを目的として、全学的なマネジメント体制のもと、黑料网骋补狈研究戦略室を設置した。